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HE-SZ-600水煮試驗機一般環(huán)境要求

更新時間:2024-06-07   點擊次數:166次

水煮試驗機作為一種用于測試材料或產品在高溫高壓環(huán)境下的耐熱性能和耐壓性能的試驗設備,其在化學、材料科學、航空航天等領域的應用廣泛。為了確保試驗的準確性和設備的穩(wěn)定性,水煮試驗機的環(huán)境要求顯得尤為重要。本文將詳細探討水煮試驗機的一般環(huán)境要求,以及這些要求背后的原因和必要性。

水煮箱2.jpg

一、溫度
首先,水煮試驗機應放置在溫度適宜、濕度適中的環(huán)境中。一般來說,最佳環(huán)境溫度應控制在25℃~35℃之間,而相對濕度則應保持在35%~65%的范圍內。這是因為高溫或低溫環(huán)境都可能影響設備的正常運行和測試結果。例如,過高的溫度可能導致設備內部元件過熱,從而影響其性能和壽命;而濕度過高則可能導致設備內部電路短路或生銹,進而影響其穩(wěn)定性和安全性。因此,保持適宜的溫度和濕度對于確保水煮試驗機的正常運行至關重要。

二、濕度

其次,水煮試驗機應放置在通風良好的地方。這有助于保持設備內部的溫度穩(wěn)定,并減少因過熱而產生的潛在風險。同時,良好的通風還能減少設備內部的水分凝結,防止因潮濕而導致的電路故障或元件損壞。

三、電源穩(wěn)定性
此外,電源穩(wěn)定性也是水煮試驗機環(huán)境要求中的重要一環(huán)。設備應使用穩(wěn)定的電源,并避免電壓波動或電源不穩(wěn)定的情況。這可以確保設備在測試過程中不會因為電源問題而出現故障或測試結果偏差。

四、特殊環(huán)境
除了上述基本要求外,還有一些特殊的環(huán)境要求需要注意。例如,水煮試驗機應遠離強磁場和強電場,以防止電磁干擾對設備性能和測試結果的影響。同時,設備還應避免暴露在陽光直射或潮濕的環(huán)境中,以防止因光照或水分導致的設備損壞或性能下降。
另外,為了確保試驗的準確性和設備的穩(wěn)定性,使用水煮試驗機時還需要注意一些操作細節(jié)。例如,在測試前應對設備進行檢查和維護,確保其處于良好的工作狀態(tài);在測試過程中應嚴格按照操作規(guī)程進行操作,避免因操作不當而導致的設備故障或測試結果偏差;在測試結束后應及時清理設備內部和外部的殘留物,保持設備的清潔和衛(wèi)生。

五、主要技術參數

設備型號: HE-SZ-600、 HE-SZ-800、 HE-SZ-1000

內箱尺寸(mm) 600×400×400、 800×500×400、 1000×600×500

使用電源: AC 220V 50/60HZ、 AC 380V 50/60HZ

內外箱材質: 采用SUS304#不銹鋼,厚1.0mm

溫度范圍: 常溫+15℃~100℃(水沸騰溫度)

控制精度: ±1.0℃

顯示精度: 0.1

均勻度: ±1.0

控制方式: 按鍵式控制或PLC程式觸摸屏控制

補水方式: 自動補水或手動加水

水質要求: 自來水、純凈水、蒸餾水。(鹽水需要特殊定制)

保護裝置: 缺水保護、防止干燒、防漏電保護、接地保護、快速保險等


綜上所述,水煮試驗機的環(huán)境要求涵蓋了溫度、濕度、通風、電源穩(wěn)定性以及特殊環(huán)境等多個方面。這些要求的設置旨在確保設備在最佳狀態(tài)下運行,從而獲得準確可靠的測試結果。因此,在使用水煮試驗機時,我們應充分了解并遵守這些環(huán)境要求,以確保試驗的順利進行和設備的長期穩(wěn)定運行。

 


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